铁电薄膜在数据储存、传感、外观催化等方面有着很多应用。铁电体的特性就是具有自觉的可翻转的电偶极矩。铁电体的边界处因为结构的不延续性,存在约束极化电荷的聚集。约束电荷只有得到了有用的屏蔽,铁电相才能稳固存在。对于铁电薄膜,因为明显的边界效应,界面的极化电荷屏蔽机制基本决定了薄膜器件的物性与应用。长久以来,人们认为铁电薄膜中存在一个临界尺寸。当薄膜的厚度小于临界尺寸,边界的极化电荷会产生一个很大的退极化场,使得铁电相不再稳固。在几十年前,科学家估计临界尺寸有几十纳米至几百纳米。最近十多年来,随着薄膜样品制备技术与表征技术的提高,科学家在越来越薄的钙钛矿铁电薄膜中都证明了铁电极化的存在,即临界尺寸可能只有几个纳米甚至更薄。
北京大学电子显微镜实验室的“青年千人”研究员高鹏一向从事行使先辈电子显微学技术研究铁电薄膜材料的结构与物性。他们与合作者曾体系地研究过铁电薄膜中畴翻转的动力学过程,以及行使皮米测量精度的定量环形明场像技术研究了钛酸锆铅(PbZr0.2Ti0.8O3)铁电薄膜的外观结构(Nat. Commun. 7,11318,2016)。最近,他们和东京大学、台湾交通大学、武汉大学等合作进一步用定量环形明场像技术正确测量了铁电薄膜中极化强度与厚度的依靠关系。他们在1.5个单胞厚度(约0.6 nm)的钛酸锆铅薄膜中也发现了稳固的极化~16 μC/cm2(约为体材料的17%),这些残留的极化强度重要来自于PbO面。0.6 nm是迄今为止发现的最小的钙钛矿铁电薄膜厚度。研究效果发表在Nature Communications 8,15549,2017,其中高鹏研究员为第一作者和共同通信作者。该研究效果注解,钙钛矿铁电薄膜中有可能并不存在临界尺寸。
由物理学院俞大鹏院士向导的北京大学“电子光学与电子显微镜实验室”是北京大学的校级大型公共仪器平台,该实验室在黉舍的大力支撑下,于2015年底新购置了两台国际上迄今最先辈的球差矫正透射电镜:Nion公司的配置单色仪的U-HERMES200(能量分辨率8 meV)和FEI公司的双球差矫正的Titan Cubed Themis G2 300。与此同时,俞大鹏院士也积极在国际上招募电子显微学方面的青年学者,重点发展电子显微学先辈表征技术在功能材料科学方面的应用,进一步进步大型高端仪器的管理水平、提拔电镜平台服务服从和使用质量。高鹏研究员就是第一个被引进的“青年千人”电镜才俊。高鹏本科在中国科技大学物理系少年班卒业后,追随王恩哥院士、白雪冬研究员攻读电子显微学方面的博士学位,随后在美国布鲁克外文国家实验室、伯克利劳伦斯国家实验室、日本东京大学等从事博士后研究。高鹏研究员受邀于2015年加盟北京大学电镜实验室,他入职迄今已经发表了2篇Nature Communications以及Nano Letters等创新性研究成果,展示出优秀的发展势头。目前,北京大学电子显微镜实验室的FEI双球差矫正电镜正在调试阶段。超高能量分辨的Nion球差矫正电镜预计2017年炎天到货安装。
该研究得到了科技部重点研发项目、国家天然科学基金、2011协同创新中间、中组部“青年千人”计划、北京大学电子显微镜实验室等项目经费和单位的紧张资助。
(a) 环形明场像的1.5 uc(0.6 nm) PbZr0.2Ti0.8O3(PZT) 薄膜生长在SrTiO3(STO)衬底上。(b) PbZr0.2Ti0.8O3中残留极化强度与厚度的依靠关系,大致可以分为三个区域。当薄膜厚度小于1nm,依然有部分极化存在。橙色:PbZr0.2Ti0.8O3薄膜在SrTiO3衬底上。蓝色:PbZr0.2Ti0.8O3薄膜在有SrRuO3底电极的SrTiO3衬底上。
编辑:安宁
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